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國儀高精度分流器制造專業的精品
更新時間:2011-07-22   點擊次數:1615次

與現在廣泛使用的硅材料相比高精度分流器,據了解。輝鉬具有兩個主要優點:一是達到同等效用的體積更小。只有0.65納米厚的輝鉬材料,電子在其中能像在2納米厚的硅材料中那樣自如移動,同時,現有技術還無法將硅資料制作得跟輝鉬材料一樣薄;高精度分流器二是能耗更低。據估計,輝鉬制成的晶體管在待機狀態下消耗的能量只是體管的約十萬分之一。

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單層的輝鉬材料顯示出良好的半導體特性,有些性能逾越現在廣泛使用的硅,可望成為下一代半導體資料。

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